「光罩(Mask)」是製作積體電路非常重要的工具，將設計圖上的幾何圖形「第一次縮小」，以電子束刻在石英片上，由於電子束的直徑大小約為1μm(微米)，所以用電子束刻在石英片上的圖形線寬大約1μm(微米)，再利用光罩進行圖形轉移，將光罩上的圖形轉移到矽晶圓上。
光罩的製作流程
使用電子束將所需要的圖形刻在石英片的流程如圖所示，其詳細步驟如下：
- 先將金屬鉻(Cr)蒸鍍在石英片上方形成一層金屬薄膜，通常使用「濺鍍(Sputter)」的方式來蒸鍍金屬鉻(Cr)，形成「鉻／石英片」的兩層結構，如【圖(a)】所示。
- 將「電子束專用光阻」以「旋轉塗佈法」塗佈在金屬鉻的上方，形成一層塑膠薄膜(稱為「光阻」)，形成「光阻／鉻／石英片」的三層結構，如【圖(b)】所示。
- 直接以電子束將光罩圖形刻寫在光阻上，被電子束刻寫過的區域，光阻化學鍵結被破壞，使光阻很容易被化學藥品溶解掉，如【圖(c)】所示。由於電子束的直徑大小約為1μm(微米)，所以刻好的圖形線寬大約1μm(微米)。
- 將「光阻／鉻／石英片」放入「第一種化學藥品」中反應，化學鍵結被破壞區域的光阻會被第一種化學藥品溶解，如【圖(d)】所示，這個動作稱為「顯影」，而「第一種化學藥品」稱為「顯影液」，通常都是有機化學溶劑。
- 將「光阻／鉻／石英片」放入「第二種化學藥品」中反應，沒有光阻保護區域的金屬鉻會被第二種化學藥品溶解，有光阻保護區域的金屬鉻則由於光阻的保護作用而不會被溶解，如【圖(e)】所示，這個動作稱為「蝕刻」，「第二種化學藥品」稱為「蝕刻液」，通常都是使用強酸，例如：硫酸、硝酸、氫氟酸等。
- 將「光阻／鉻／石英片」放入「第三種化學藥品」中反應，所有殘留的光阻均會被第三種化學藥品溶解而去除，如【圖(f)】所示，這個動作稱為「光阻去除」，「第三種化學藥品」稱為「去光阻液」，通常也都是有機化學溶劑，但是與「第一種化學藥品」不同。
資料來源：科技台灣